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混懸液實(shí)驗(yàn)室小試膠體磨,GMSD2000的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。
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一、產(chǎn)品名稱:混懸液實(shí)驗(yàn)室小試膠體磨,混懸液實(shí)驗(yàn)室膠體磨,德國(guó)注射液進(jìn)口膠體磨,上海注射液膠體磨,混懸液成套設(shè)備,實(shí)驗(yàn)室進(jìn)口小試膠體磨,混懸液進(jìn)口實(shí)驗(yàn)室用分散機(jī)
二、混懸液的生產(chǎn)概述:
混懸液膠體磨 如 長(zhǎng)效鹽suan頭孢噻呋注射液,由下述方法制得:將鹽suan頭孢噻呋原料藥加入復(fù)合溶媒中攪拌,充分混勻得混懸液;將助懸劑加入注射劑溶媒中并在80℃~90℃下溶解得溶解液;將溶解液冷卻至室溫后加入到混懸液中,攪拌均勻得混合液;再加入抑菌劑于混合液中,加入剩余的注射級(jí)溶媒定至全量,攪拌混勻;然后過高速剪切分散機(jī),再過膠體磨,滅菌,制得長(zhǎng)效鹽suan頭孢噻呋注射液。上海思峻醫(yī)藥級(jí)膠體磨制備工藝操作簡(jiǎn)單,得到的混懸注射液均勻、重分散性好、流動(dòng)性好、沉降慢。溶解度和穩(wěn)定性好,豬肌內(nèi)注射該制劑后消除半衰期長(zhǎng),可延長(zhǎng)藥物在體內(nèi)的有效作用時(shí)間,減少用藥次數(shù)。
注射液膠體磨 如特別是一種硫suan頭孢喹肟注射液及其制作工藝。該注射液的組成為含頭孢喹肟不低于50g-300g的硫suan頭孢喹肟微粉、抗氧劑0.4g-40g、脂類或酯類有機(jī)溶劑加至10000ml。制作工藝將抗氧劑溶于脂類或酯類有機(jī)溶劑,過濾至混合罐中,將硫suan頭孢喹肟微粉加入,攪勻,過膠體磨磨細(xì),制成均勻的混懸液,攪拌、分裝、滅菌。上海思峻醫(yī)藥級(jí)膠體磨解決了現(xiàn)有技術(shù)存在的國(guó)內(nèi)沒有第四代動(dòng)物頭孢類抗菌素的問題,具有所制備的產(chǎn)品與第三代頭孢菌素相比,抗菌譜更廣,抗菌活性更強(qiáng),對(duì)細(xì)菌產(chǎn)生的β-內(nèi)酰胺酶更穩(wěn)定,整體制備工藝簡(jiǎn)單易行。
三、混懸液的特性:
按Stokes定律要求,混懸劑中微粒濃度應(yīng)在2%以下。但實(shí)際上常用的混懸劑濃度均在2%以上。此外,在沉降過程中微粒電荷的相互排斥作用,阻礙了微粒沉降,故實(shí)際沉降速度要比計(jì)算得出的速度小得多。由Stokes定律可見,混懸微粒沉降速度與微粒半徑平方、微粒與分散介質(zhì)密度差成正比,與分散介質(zhì)的粘度成反比?;鞈椅⒘3两邓俣扔螅鞈覄┑膭?dòng)力學(xué)穩(wěn)定性就愈小。
為了使微粒沉降速度減小,增加混懸劑的穩(wěn)定性,可采用以下措施:①盡可能減小微粒半徑,采用適當(dāng)方法將藥物粉碎得愈細(xì)愈好。這是zui有效的一種方法。②加入高分子助懸劑,既增加了分散介質(zhì)的粘度,又減少微粒與分散介質(zhì)之間的密度差,同時(shí)助懸劑被吸附于微粒的表面,形成保護(hù)膜,增加微粒的親水性。③混懸劑中加入低分子助懸劑如糖漿、甘油等。
四、混懸液生產(chǎn)設(shè)備工藝流程:
制備方法有分散法和凝聚法。采用凝聚法制備時(shí),應(yīng)選用稀溶液在較低溫度下反應(yīng),以獲得細(xì)膩、均勻沉淀。分散法制備混懸液時(shí),親水性藥物,一般先研磨到一定細(xì)度,再加液質(zhì)研磨和稀釋;疏水性藥物,應(yīng)先將藥物與潤(rùn)濕劑研均,再加液質(zhì)研磨、稀釋。凝聚法包括化學(xué)反應(yīng)法和微粒結(jié)晶法,制備時(shí)應(yīng)注意化學(xué)反應(yīng)生成沉淀的條件,以便制得均勻、細(xì)膩的新生沉淀。處方中往往須加入助懸劑、潤(rùn)濕劑、絮凝劑與反絮凝劑等穩(wěn)定劑。下面具體討論混懸液分散制備的方法:主要采用上海思峻SGN混懸液膠體磨或者說(shuō)混懸液研磨分散機(jī),能夠細(xì)化混懸液的顆粒,降低沉降速率,制得懸浮性號(hào)的分散均勻的溶液。
混懸液GMSD2000系列研磨分散設(shè)備是SGN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變更為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
五、混懸液膠體磨的作用:
膠體磨的細(xì)化作用一般來(lái)說(shuō)要弱于均質(zhì)機(jī),但它對(duì)物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)(如高粘度、大顆粒),所以在很多場(chǎng)合下,它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場(chǎng)合。在固態(tài)物質(zhì)較多時(shí)也常常使用膠體磨進(jìn)行細(xì)化。
GMSD2000系列是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計(jì),特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。GMSD2000的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
由電動(dòng)機(jī)通過皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。
更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設(shè)計(jì)理念,將先J的技術(shù)與創(chuàng)X的思維有效融合,并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)中,為設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行提供了保證.
新結(jié)構(gòu) 通過梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細(xì)度大小,高線速度的吸料式葉輪提供很強(qiáng)的切割力,纖維濕法研磨破碎可達(dá)400目.
更可靠 采用整體式機(jī)械密封,很大程度上解決了高速運(yùn)轉(zhuǎn)下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問題,安裝與更換方便快捷.
新技術(shù) 采用國(guó)W先J的受控切割技術(shù),將纖維類物料粉碎細(xì)度控制在設(shè)定范圍之內(nèi),滿足生產(chǎn)中的粗、細(xì)及超細(xì)濕法粉碎的要求.
專為實(shí)驗(yàn)室研發(fā),模擬生產(chǎn)流程,為量產(chǎn)提供可靠的數(shù)據(jù)論證。該中試型型機(jī)器和大型量產(chǎn)機(jī)型配置相同,且分散頭的種類及相應(yīng)線速度也相同,中試過程中的工藝參數(shù)在量產(chǎn)化之后不要重新調(diào)整,而將機(jī)器型號(hào)升級(jí)過程中的風(fēng)險(xiǎn)降到更低。
傳統(tǒng)實(shí)驗(yàn)室分散機(jī)的弊端:傳統(tǒng)的批次分散機(jī)用于研發(fā),效果或許可以達(dá)到要求,但是摸索出來(lái)的設(shè)備參數(shù)*不可用,批次的分散機(jī)無(wú)法線性放大,所以后期工業(yè)化生產(chǎn)就需要重新摸索參數(shù),這樣會(huì)導(dǎo)致效率低、風(fēng)險(xiǎn)大。
六、SGN/思峻混懸液分散機(jī)型號(hào)參數(shù)表:
設(shè)備等級(jí):化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無(wú)菌級(jí)
電機(jī)形式:普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇:380V/50Hz、220V/60Hz、440V/50Hz
電機(jī)選配件:PTC 熱保護(hù)、降噪型
均質(zhì)機(jī)材質(zhì):SUS304、SUS316L、SUS316Ti
均質(zhì)機(jī)選配:儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車
均質(zhì)機(jī)表面處理:拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
乳化機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
分散均質(zhì)機(jī)高剪切分散均質(zhì)機(jī),實(shí)驗(yàn)室均質(zhì)機(jī)
應(yīng)用于:奶油、化妝品、牙膏、果汁、洗滌劑、漿糊、鹽溶液、催化劑、涂漆、聚合物乳化液、農(nóng)藥(除草劑、殺蟲劑)。
GMSD2000 研磨分散機(jī)參數(shù)表
型號(hào) |
GMSD2000/4 |
處理量: |
0-400L/H(水) |
功率 |
4kw |
電機(jī)轉(zhuǎn)速 |
3000rpm |
傳動(dòng)轉(zhuǎn)速 |
7300rpm(通過變頻可10500rpm) |
材質(zhì) |
與物料接觸均為316L不銹鋼 |
出口類型 |
衛(wèi)生級(jí)卡箍聯(lián)接 |
出口尺寸 |
DN15 |
進(jìn)口類型 |
衛(wèi)生級(jí)卡箍聯(lián)接 |
進(jìn)口尺寸 |
DN25 |
溫度 |
120℃ |
壓力 |
2.5bar |
分散盤 |
約為55mm |
整機(jī)重量 |
約為55kg |
設(shè)備尺寸 |
450*350*750mm |
混懸液實(shí)驗(yàn)室小試膠體磨,混懸液實(shí)驗(yàn)室膠體磨,德國(guó)注射液進(jìn)口膠體磨,上海注射液膠體磨
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